Texas Instruments DLP650LNIR 0.65 NIR WXGA DMD
Texas Instruments DLP650LNIR 0.65 NIR WXGA 디지털 마이크로미러 장치(DMD)는 근적외선(NIR) 조명을 주사하고 산업 장비의 고급 이미징을 위한 고속 패턴을 생성하는 공간 광 변조기(SLM)로 작동합니다. 열효율이 뛰어난 이 패키지를 통해 DMD를 다이나믹 디지털 인쇄, 소결 및 마킹 솔루션을 위한 고출력 NIR 레이저 조명과 결합할 수 있습니다. DLP650LNIR, DLPC410, DLPR410 및 DLPA200 칩셋은 픽셀 정밀 제어로 최대 12,500Hz의 1 비트 패턴 속도를 제공하므로 엔지니어는 기존의 조향 레이저가 허용하는 것보다 더 혁신적이고 정밀한 광학 시스템을 설계할 수 있습니다.
특징
- 1280 × 800(WXGA) 어레이(1백만 마이크로미러 이상 제공)
- 마이크로미러 피치: 10.8µm
- 마이크로미러 틸트 각도: ±12°(평탄 상태 기준)
- 코너 일루미네이션을 위해 설계된 0.65인치 대각선 어레이
- 0.5°C/W 내열성 고효율 패키지
- 근적외선 조명의 효율적인 주사(800~2,000nm)
- DMD에서 최대 160W 인시던트
- 창 투과 효율 98% 이상(950nm~1,150nm, 단일 패스, 2개의 창 표면)
- 창 투과 효율 93% 이상(850nm~2,000nm, 단일 패스, 2개의 창 표면)
- 분극에 독립적인 알루미늄 마이크로미러
- 16비트, 2xLVDS, 400MHz 입력 데이터 버스
- 신뢰할 수 있는 고속 작동을 위한 전용 DLPC410 컨트롤러, DLPR410 PROM 및 DLPA200 마이크로미러 드라이버
- 바이너리 패턴율: 최대 12,500Hz
- 글로벌, 싱글, 듀얼 및 쿼드 블록 미러 클로킹 펄스(리셋) 작동 모드
애플리케이션
- 3D 프린팅, 선택적 레이저 소결(Selective Laser Sintering, SLS)
- 다이내믹 그레이스케일 레이저 마킹 및 코딩
- 산업용 프린팅, 플렉소그래픽 프린팅, 디지털 플레이트 제작
- 수리 및 제거
- 분광학
- 3D 머신 비전 및 3D 생체 인식
- 적외선 투영
- 초분광 이미징
- 광학 스위칭
간소화된 애플리케이션
관련 개발 도구
Texas Instruments DLPLCR65NEVM DLP 평가 모듈(EVM)
850-2000nm 근적외선(NIR) 조명 소스를 사용하는 애플리케이션에 사용됩니다.
게시일: 2019-02-08
| 갱신일: 2023-06-21